常压（大气）宽幅等离子设备M款

产品介绍

产品特点

1. 更优良的处理效果：放电面值增加至50mm，对比一般常压等离子清洗机可提升3~5倍的清洗效果；

2. 更快速的处理速度：可达8M/min；

3. 更低的过程处理温度：过程温度≤40ºC，有效保护产品，不产生热损伤；

4. 更稳定的过程控制：等离子放电更稳定，不产生电弧，不产生电损伤；

5. 更低廉的使用成本：使用氮气（N₂)和压缩空气（CDA）作为工艺气体，制氮机可供应，维护费用低；

6. 更少的微尘产生：的电极结构和处理方式，微尘（Particle） 产生最小化。

应用于手机制造、摄像头、指纹模组、半导体制造、包装、印刷、涂覆、高分子材料等。

1. LCD(2G~11.5G)，OLED生产制程中广泛使用；

2. TP（触摸屏）生产制程中广泛使用；

3. AF镀膜（防指纹），AS镀膜（防刮），AG镀膜（防炫），AR镀膜（增透）前处理；

4. 显示屏全贴合前处理、显示屏ACF压合前处理；

5. 金属薄膜（Cu、Al等）、非金属薄膜（PET、PI等）卷材涂覆、粘接前表面处理。

规格参数